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          2021-05-07 18:51
          水基清洗技術在相機模塊清洗中的應用分析
          技術論壇
          發表于 2021-05-07 18:51

          水基清洗技術在相機模塊清洗中的應用介紹--海明科技

          關鍵詞閱讀指南:模塊、攝像模塊、水基技術、水基清洗劑、水基工藝

          (圖片來源于互聯網)

          一、相機模塊的結構與發展趨勢

          相機已廣泛應用于各種電子產品中,特別是手機、平板電腦等行業的快速發展,帶動了相機行業的快速發展。近年來,用于獲取圖像的相機模塊在個人電子產品、汽車、醫療等領域得到了越來越廣泛的應用。例如,相機模塊已經成為智能手機、平板電腦等便攜式電子設備的標準附件之一。在便攜式電子設備中使用的攝像頭模塊不僅可以獲取圖像,還可以幫助便攜式電子設備實現實時視頻通話等功能。隨著便攜式電子設備的發展趨勢和對相機模塊成像質量的要求越來越高,對相機模塊的整體尺寸和成像能力提出了更嚴格的要求。也就是說,便攜式電子設備的發展趨勢要求相機模塊在縮小尺寸的基礎上進一步提高和增強成像能力。

          從手機攝像機的結構上看,主要分為圖像傳感器(光信號轉換為電信號)、鏡頭、音圈電機、攝像機模塊和紅外濾波器五個部分,攝像機產業鏈可分為鏡頭、音圈電機、紅外濾波器、CMOS傳感器、圖像處理器和模塊封裝,工業技術門檻高,產業集中度很高。相機模塊包括:

          (圖片來源于互聯網)

          1.電路板上有電路和電子元件的電路板;

          二、所述封裝體包裹所述電子元器件,且所述包裝體上設有空腔;

          3.光敏芯片與電路電連接,光敏芯片的邊緣被封裝,光敏芯片的中間部分放置在腔內。

          4.鏡片固定并連接到包件的上表面;及

          5.濾光片直接連接到透鏡上,設置在腔體上方,并與感光芯片對齊。

          (I)CMOS圖像傳感器:圖像傳感器的生產需要復雜的技術和處理技術,市場長期以來一直由索尼(日本)、三星(韓國)和豪伊技術(美國)主導,市場份額超過60%。

          (2)移動電話鏡頭:鏡頭是產生圖像的光學元件,通常由多個透鏡組成,用于在負片或屏幕上形成圖像。該透鏡分為玻璃透鏡和樹脂透鏡。與樹脂透鏡相比,玻璃透鏡的折射率較大(在相同焦距下較薄),透光率較高。此外,玻璃鏡片生產難度大,產品合格率低,成本高。因此,玻璃鏡片主要用于高端攝影設備,樹脂鏡片主要用于低端攝影設備。

          (3)聲圈電機(VCM)中的音圈電機(VCM):聲線圈電機(語音馬達)是一種電機,手機攝像機廣泛使用VCM實現自動調焦功能,通過VCM可以調節鏡頭的位置,顯示清晰的圖像。

          相機模塊:CSP封裝技術逐漸成為主流

          隨著市場對智能手機輕量化的需求不斷增加,相機模塊包裝的重要性日益突出。目前,主要有兩種主流的攝像模塊封裝工藝:COB封裝和CSP封裝。目前,低像素的產品主要是CSP封裝,5m以上的高像素產品主要是CoB封裝。隨著CSP包裝技術的不斷進步,CSP包裝技術正逐步滲透到500萬以上的高端產品市場。CSP封裝技術有可能成為未來包裝技術的主流。近年來,由于移動電話和汽車應用的驅動,模塊市場規模逐年擴大。

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          (5)紅外濾光片:紅外截止濾光片是采用精密光學鍍膜技術在光學基片上交替涂覆高折射率和低折射率的光學薄膜,以實現可見光區(630 Nm)和近紅外(1100 Nm)截止濾光片的高透過率。紅外截止濾波器應用于CCD或CMOS成像系統中,對提高成像質量起著重要作用。主要用于攝像機、計算機內置攝像頭、車載攝像機等數字成像領域,用于消除紅外線對CCD/CMOS成像的影響。通過在成像系統中加入紅外截止濾波器,阻斷影響成像質量的紅外光,使圖像更符合人眼的最佳視覺效果。

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          2.相機模塊的主要清洗工藝介紹

          水基清洗技術應用于相機模組行業已有十多年的歷史。與相機模塊相關的產品包括個人電腦相機、監控攝像機、手機攝像頭、汽車攝像機等。

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          手機攝像頭模塊(CCM)實際上是內置在手機中的相機/拍攝模塊。它主要包括鏡頭、成像芯片COMS、PCBA電路板,以及連接到手機主板的連接器的幾個部分。直接安裝在手機主板上,用相應的軟件也可以驅動。隨著智能手機的飛速發展,手機的更新周期越來越短,消費者對手機拍照質量的要求也越來越高。

          由COB/COG/COF工藝制作的手機攝像模塊已廣泛應用于數千萬像素的移動電話中。水基清洗技術在這些過程中起著越來越重要的作用。去除濾芯、支架和電路板表面的有機污染物,對各種材料表面進行活化和粗化,從而達到改善支架與過濾器之間的粘接性能,提高絲標的可靠性,提高手機模塊的良好性能的目的。

          因此,在清洗相機模塊時,有兩個主要要求:

          1.清洗液必須具有良好的潤濕能力,如滲透性和漂洗能力,才能完全去除毛細管空間中的助熔劑殘留物。

          二.徹底清除生產階段的所有灰塵。

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          水基清洗液適用于超聲波清洗過程,也可用于噴霧清洗過程。專門用于清洗PCBA電路板上的焊劑、焊膏殘渣和顆粒,如油污、手印、金屬氧化物層、靜電顆粒和粉塵等。經沖洗干燥,在高潔凈度的相機模塊、指紋模塊等高精度部件,如微沼氣、倒裝芯片等高科技部件的清洗中,具有非常理想的效果。

          總結:鑒于上述要求,相機模組水基清洗液具有優良的透氣性和沖洗能力。一方面,它們提供了最佳的流量去除能力;另一方面,它們確保圖像傳感器上沒有灰塵和水漬,以確保相機模塊的完美圖像分辨率,避免像素缺陷。

          以上文章僅供參考!

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